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目录1

序 皇家学会会员托兰斯基教授1

作者序1

第一章 真空蒸发1

1．淀积技术1

2．在减压下蒸发2

3．真空蒸发设备的设计及操作4

4．高真空的获得5

5．挥发性材料镀膜用的设备15

6．防止旋转泵油染污18

第二章 真空中塑料材料的除气25

1．导论25

2．塑料的相对除气性质25

3．增塑剂27

4．真空中来自多孔固体的挥发物的退吸作用30

5．一些著名聚合物的干燥机理31

6．表面敷？克35

7．塑料表面的离子轰击36

8．纸张的干燥37

第三章 真空淀积层的耐久性及表面清洁设备39

1．化学清洁39

2．离子轰击清洁41

3．低压时气体放电44

4．离子轰击设备46

5．电子轰击51

6．真空淀积膜的耐久性54

第四章 蒸汽源58

1．真空中蒸发58

2．丝状及箔状蒸汽源………………………………………………………………………………………？3．真空中不同耐熔质之间的反应69

4．金属氧化物坩埚70

5．碳坩埚及加热元件72

6．一种辐射加热的蒸汽源74

7．电子轰击加热75

2．理论简述76

第五章 蒸汽源发射特性及薄膜厚度分布78

1．导论78

3．实际源的发射特性89

4．蒸汽分子从加热器表面上的反射93

5．通过小孔的蒸汽发射94

6．递级淀积层的制造95

第六章　一系列的金属及合金的蒸发技术96

1．铝96

2．铍99

3．铬100

4．钴、镍及铁100

5．铑101

6．锌及镉102

7．合金的蒸发103

8．恒定蒸发率的合金107

9．“刹那”蒸发技术110

第七章　真空淀积的膜的成长，结构及物理性质112

1．凝结现象113

2．真空淀积的膜层的组织及结晶成长116

3．膜层厚度及表面密度的测量124

4．取决于膜层结构的物理性质131

第八章　用于电方面的薄膜的制备140

1．金属化的电阻器140

2．电容器纸上镀锌膜142

3．锌淀积技术145

4．在晶体振动器上淀积电极149

1．导论153

2．减反射膜153

第九章　光学干涉膜153

3．耐久的减反射膜155

4．多层减反射膜159

5．高反射膜161

6．法布里—珀罗干涉滤光片163

7．硫化锌的光学及蒸发性质167

第十章　控制干涉膜的淀积用的设备169

1．制备高及低反射膜的设备169

2．多层干涉膜的淀积设备174

3．法布里—珀罗干涉滤光片的透射波长的精确控制178

第十一章　蒸发的铝膜181

1．光学性质181

2．高反射铝合金185

3．衬底温度及蒸发率对铝镜反射比的影响185

4．蒸汽入射角对反射比的影响187

5．阻止粒状淀积膜生长的蒸汽源排列191

6．耐久铝镜的制备193

7．铝的氧化作用195

8．蒸发的铝镜上镀多层膜201

第十二章 在塑料及涂？克的部件上的蒸发的铝膜层203

1．在透明塑料上的光学膜层203

2．塑料部件上的电膜206

3．涂？克的部件的金属终饰207

4．塑料基底用的？克配方211

5．金属基底用的？克213

6．染色的？克保护膜215

7．工作物夹具的设计216

第十三章　影铸及表面重摹220

1．导论220

2．蒸气入射角对象衬度的影响220

3．表面重摹品及影铸淀积膜221

5．影铸设备224

4．光学显微术用的成影224

第十四章　阴极溅射229

1．导论229

2．电化溅射229

3．物理溅射231

4．阴极设计对溅射率的影响237

5．被溅射的淀积膜的分布239

6．阴极溅射理论（物理的）243

7．溅射纯金属膜246

8．典型的溅射设备249

9．金属试样的阴极侵蚀250

第十五章　金属氧化物膜的制备253

1．导论253

2．金属氧化物的真空蒸发256

3．纯及不纯金属膜的热氧化作用256

4．金属氧化物的反应溅射259

5．反应溅射机理261

第十六章　氧化物膜的制备及其性质265

Ⅰ．光学上的应用265

1．氧化铝265

2．二氧化钛266

3．氧化铁271

4．低反射比的吸收滤光片274

5．硅的氧化物275

Ⅱ．导电的氧化物281

6．金属氧化物中的导电机理281

7．氧化锡281

8．氧化镉………………………………………………………………………………………………………？Ⅲ．做为透明导电膜的底膜的金属氧化物9．氧化物底膜对金属膜电导率的效应288

10．对透明导电膜在使用中的实际考虑290

附录291

一系列无机化合物的淀积特性及折射率291

参考文献298