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一 光谱学与激光器件1

1.1 Bcl3振动激发弛豫的红外吸收研究2

1.2 强红外场作用下Bcl3振动态传能动力学研究16

1.3 MULTOPHOTON IONIZATION OF CHLORINE:THE3∑ustate41

1.4 Cl3分子Rydberg态及混合Rydberg——价态多光子光谱55

1.5 碘分子单频及双频多光子光谱80

1.6 ANALYSIS OF Fou＋ION-PAIR STATE OG IODINE95

1.7 碘分子高激发态光学双共振多光子离化光谱110

1.8 SiH自由基A2△——X2Ⅱ跃迁光谱研究120

1.9 快速脉冲集成电路激光电源128

1.10 光栅选频无氦重复频率TEA CO2激光器138

二 材料制备与合成147

2.1 激光等离子体淀积硅膜148

2.2 EXCIMER LASER ASSISTED DEPOSITION OF Cr AND B FILMS165

2.3 脉冲CO2激光制备纳米级SiC粉末174

2.4 半导体超薄层微结构的外延生长技术183

2.5 TEXTURED DIAMIND FILMS GROWTH ON（100） SILICON VIA ELECTRONASSISTED HOT FILANENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION200

2.6 电子助进热丝化学汽相沉积金刚石薄膜210

2.7 硅基纳米微粒的激光烧蚀沉积及可见光发射特227

2.8 辉光放电等离子体辅助XeCL准分子激光溅射沉积碳氮薄膜241

三 光学诊断与动力学过程255

3.1 DUNAMIC PROCESSION OF SiH4＋CH4 PLASMA INDUCED BY AN INFRARED LASER256

3.2 脉冲红外激光诱发SiH4＋CH解离动力学研究288

3.3 激光诱发SiH4＋CH等离子体的发射光谱305

3.4 DIAGNOSIS OF KINETIC PROCESS IN SILANE LPCVD BY THE OPTOACOUSTIC LASER DEFLECTION（OLD） TECHNIQUE314

3.5 激光等离子体淀积硅薄膜过程动力学研究327

3.6 TEACO2激光诱发SiH4等离子体发光动力学研究337

3.7 SiH4激光等离子体OES研究354

3.8 SiH4激光等离子体内自由基反应动力学研究364

3.9 可调谐TEA CO2激光辐照SiH4击穿过程的研究379

3.10 SiH4分子的光声谱及声速的测量386

3.11 SiH4激光等离子体内H谱线的线型研究389

3.12 氮气辉光放电阴极鞘层重粒子输运过程研究403

3.13 OPTICAL EMISSION STUDY OF THE PLASMA PLUME DYNAMICS DURING EXCIMER LASER ABLATION OF CARBON IN NITROGEN ATMOSPHERE417

3.14 OPTICAL EMISSION DIAGNOSTICS OFGLOW DISCHARGE PLASMA FOR THE CARBON NITRIDE GROWTH PROCESS431

后记442