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第一章 绪论1

1. 本书的范围1

2. 材料电子显微术基础3

2.1 波长与分辨能力3

2.2 衍射11

2.3 样品对分辨能力的限制14

3. 透射电子显微镜16

3.1 透射电子显微镜的部件16

3.2 透射电子显微镜的操作功能24

4. 透射电子显微镜的实际操作26

4.1 选区衍射26

4.2 磁转角标定及反转29

4.3 放大倍率标定32

4.4 相机常数34

4.5 样品污染34

4.6 暗场技术35

4.7 研究晶格缺陷的高分辨技术38

4.8 晶格成象42

4.9 会聚束衍射48

4.10 立体镜技术50

5. 扫描透射电子显微镜(STEM)53

5.1 电子扫描系统的基本特点53

5.2 扫描透射电镜中的成象55

5.3 扫描透射电镜中的微衍射56

5.4 扫描透射电镜微区成分分析59

6. 光学衍射与电子显微术63

8. 参考书目69

7. 样品制备69

习题72

参考文献74

第二章 电子衍射几何学76

1. 布拉格定律与倒易点阵76

1.1 几何学76

1.2 结构因数78

2. 衍射花样指数化81

2.1 衍射指数的确定81

2.2 反射球的曲率84

3.1 晶体形状因数85

3. 倒易阵点的形状及衍射斑点的产生85

3.2 入射束的发散或会聚91

3.3 初级消光91

4. 由衍射斑花样获得的信息92

4.1 二次衍射93

4.2 水纹图95

4.3 含有层错的晶体95

4.4 孪晶花样100

4.5 边带--调幅结构107

4.6 混合花样--相的鉴别110

4.7 有序化晶体的衍射花样111

4.8 表面污染效应115

4.9 衍射环花样116

5. 由菊池花样获得的信息118

5.1 菊池花样形成的几何学118

5.2 菊池花样与衍射斑花样的关系及偏差参量的测定122

5.3 晶体位向的精密测定124

5.4 菊池图126

5.5 菊池花样的一些应用131

习题140

参考文献145

第三章 村度分析及其应用导论147

振幅村度成象149

1. 引言149

2. 运动学的近似--完整晶体149

3. 不完整晶体的衬度150

3.1 概述150

3.2 衬度分析要求的信息(双光束条件)151

4. 晶格缺陷的可见性--一般判据153

5. 柏氏矢量分析158

5.1 全位错163

5.2 不全位错163

6. g,b的大小166

7. 图象位置167

7.1 位错对168

7.2 位错环169

8. 面缺陷172

8.1 堆垛层错172

8.2 位向层错180

8.3 有序合金中的反相畴界181

8.4 对映系中的反演界面184

8.5 其它效应185

9. 小体积缺陷--沉淀物185

10. 高压下的多光束效应及衬度192

10.1 位错衬度192

10.2 堆垛层错衬度196

11. 磁性材料显微术202

11.1 洛伦茨显微术及其应用202

相位衬度成象208

11.2 结构效应208

12. 晶格成象与结构成象209

12.1 晶格成象实例209

12.2 结构成象实例221

13. 晶格成象的成分分析227

13.1 引言227

13.2 应用228

13.3 适用范围234

习题236

参考文献238

1. 引言242

第四章 衍衬理论242

2. 简化的通用理论243

2.1 背反射的忽略243

2.2 相格近似244

2.3 运动学近似245

2.4 双光束动力学近似249

2.5 柱体近似251

3. 完整晶体的双光束分析解252

4.1 光束及布洛赫波260

4. 衍衬理论的发展260

4.2 色散面262

4.3 布洛赫波及吸收264

4.4 双光束公式向多光束的扩展266

5. 束洛赫波公式的发展267

5.1 双光束近似(无吸收)268

5.2 多光束解(无吸收)270

5.3 包括吸收在内的情况271

5.4 多光束色散面272

6. 非中心对称晶体274

7. 其它公式276

习题277

参考文献278

第五章 动力学理论在象衬度计算中的应用279

1. 引言279

2. 散射矩阵279

2.1 波束的散射：完整晶体279

2.2 波束的散射：平面层错280

2.3 波束的散射：一般应变场284

2.4 布洛赫波的散射：完整晶体及平面层错284

2.5 布洛赫波的散射：一般应变场286

3.1 平面缺陷：α条纹及δ条纹287

3. 典型缺陷的解(双光束)287

3.2 位错299

3.3 小缺陷303

4. 图象的显示305

5. 典型情况(n光束)的解308

5.1 完整晶体308

5.2 平面层错313

5.3 一般应变场315

6. 临界电压，V0319

7. 影响缺陷分辨能力的因素324

7.1 弱束技术326

7.2 高次明场技术331

7.3 临界电压下的图象332

7.4 几种方法的比较332

8. 通用的对称法则333

9. 多光束成象336

9.1 透镜象差的影响：衬度传递函数337

9.2 Moiré条纹(水纹图)342

9.3 晶格平面象343

9.4 晶体结构投影344

9.5 高压下的多光束象345

10. 扫描透射电子显微术345

习题346

参考文献348

附录A 由块状样品制备透射电镜薄膜的方法350

附录B 四轴坐标的六方晶系倒易点阵359

附录C 相对的倒易点阵间距367

习题解答369

英中名词对照405